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近日，在蘋果公司發(fā)布新一代ipadair，搭載臺灣積體電路制造5納米工藝a14解決方案后，臺灣積體電路制造再次引起業(yè)界關(guān)注。 據(jù)國外媒體報道，臺灣積體電路制造在5納米工藝中大放異彩，下一步將把要點迅速發(fā)展到3納米和2納米工藝。

臺灣積體電路制造使用2納米迅速進步，或使用帶柵極的晶體管技術(shù)。

上個月，臺灣積體電路制造在技術(shù)論壇上公布了5nm、4nm、3nm工藝的新進展，表明3nm工藝的研制正在按計劃進行，并將繼續(xù)使用成熟的鰭形場效應(yīng)晶體管技術(shù)。 但是，最近，比3nm更先進的2nm工藝也逐漸浮出水面。

產(chǎn)業(yè)鏈信息人士表示，臺灣積體電路制造目前2納米工藝進展迅速，超出預(yù)期。 2nm采用的不是成熟的場效應(yīng)晶體管技術(shù)( finfet )，而是柵極周圍晶體管技術(shù)) gaa )。

在上個月的科技論壇上，臺灣積體電路制造副總裁kevinzhang也在錄制視頻中表示，新的臺灣研發(fā)中心將運營先進的生產(chǎn)線，投入8000名工程師，克服2納米工藝的技術(shù)難題。